設備名稱:雙面對準曝光機
儀器型號:350/NUV/DCCD
所屬單位:西安交通大學
制造廠商:ABM
生產國別:美國
當前狀態:對外服務
儀器設備詳細指標
主要技術指標 最小線條:0.6μm;光強均勻性:±2%;CCD放大倍數:9X-600X;套刻精度:± 0.5μm;背面對準精度:±1μm;支持四種曝光模式:接近、軟接觸、硬接觸、真空;具有硅片自動找平功能;鍵合對準裝置可與鍵合機配套使用。
功能/應用范圍 用于電子封裝、光電設備、探測器、MEMS 和MOEMS設備顯示器。
服務領域 農/林/牧/漁 輕工/紡織 石油/石化 食品/煙草 地質/礦產 礦業/冶金 鋼鐵/有色金屬 水文氣象 非金屬/珠寶 橡膠/塑料(材料) 通信/郵政 機械制造 醫療/衛生 生物/醫藥 地質勘探 電氣工程 儀器/儀表 航空/航天 電子/信息技術 交通/運輸(公路/鐵路) 環保/水利/氣象/天文 其它
技術特色
服務情況及收費標準
對外服務(平均機時/年)
收費標準(元/樣品)
聯系方式
聯系人 高崐
聯系電話 18792539151
傳真 8029-3395052
電子郵件 jhw@mail.xjtu.edu.cn
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