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              多靶材共集磁控濺射系統
              發布日期:2015/3/25 14:55:51
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              設備名稱:多靶材共集磁控濺射系統 

              儀器型號:Explorer 14  

              所屬單位:西安交通大學 

              設備原值:230 萬元 

              制造廠商:Denton Vacuum  

              生產國別:美國 

              當前狀態:對外服務 

              儀器設備詳細指標 

              主要技術指標 技術參數: 1.5×10-10 Torr 極限真空 2.RF偏壓基板最高可升溫到500℃ 3.4〃標準載物臺 4.3路工藝氣體為O2,N2, Ar 主要特點 1.3英寸陰極靶槍,射頻濺射×1,直流濺射×2 2.355mm直徑真空室配置水冷、加熱、抽氣等裝置 3.共聚焦靶槍布局,可實現共濺射 4.計算機控制,遠程操作與診斷 5.真空室直徑20×20英寸 6.機械泵,分子泵,液氮冷阱復合真空系統 

              功能/應用范圍 ProcessPro計算機全自動控制系統,有維修模式,手動模式以及自動模式,自動模式一鍵式操作完成整個工藝,保證工藝的精確控制。3個靶槍共焦布局可實現金屬,磁性金屬及介電材料的獨立濺射與復合濺射,功能更強,用途更廣泛  

              服務領域  農/林/牧/漁  輕工/紡織  石油/石化  食品/煙草  地質/礦產  礦業/冶金  鋼鐵/有色金屬  水文氣象  非金屬/珠寶  橡膠/塑料(材料)  通信/郵政  機械制造  醫療/衛生  生物/醫藥  地質勘探  電氣工程  儀器/儀表  航空/航天  電子/信息技術  交通/運輸(公路/鐵路)  環保/水利/氣象/天文  其它   

              技術特色   

              服務情況及收費標準 

              對外服務(平均機時/年)   

              收費標準(元/樣品)   

              聯系方式 

              聯系人 王久洪  

              聯系電話 13201543166  

              傳真 83395052  

              電子郵件 jhw@mail.xjtu.edu.cn 



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