設備名稱:多靶材共集磁控濺射系統
儀器型號:Explorer 14
所屬單位:西安交通大學
設備原值:230 萬元
制造廠商:Denton Vacuum
生產國別:美國
當前狀態:對外服務
儀器設備詳細指標
主要技術指標 技術參數: 1.5×10-10 Torr 極限真空 2.RF偏壓基板最高可升溫到500℃ 3.4〃標準載物臺 4.3路工藝氣體為O2,N2, Ar 主要特點 1.3英寸陰極靶槍,射頻濺射×1,直流濺射×2 2.355mm直徑真空室配置水冷、加熱、抽氣等裝置 3.共聚焦靶槍布局,可實現共濺射 4.計算機控制,遠程操作與診斷 5.真空室直徑20×20英寸 6.機械泵,分子泵,液氮冷阱復合真空系統
功能/應用范圍 ProcessPro計算機全自動控制系統,有維修模式,手動模式以及自動模式,自動模式一鍵式操作完成整個工藝,保證工藝的精確控制。3個靶槍共焦布局可實現金屬,磁性金屬及介電材料的獨立濺射與復合濺射,功能更強,用途更廣泛
服務領域 農/林/牧/漁 輕工/紡織 石油/石化 食品/煙草 地質/礦產 礦業/冶金 鋼鐵/有色金屬 水文氣象 非金屬/珠寶 橡膠/塑料(材料) 通信/郵政 機械制造 醫療/衛生 生物/醫藥 地質勘探 電氣工程 儀器/儀表 航空/航天 電子/信息技術 交通/運輸(公路/鐵路) 環保/水利/氣象/天文 其它
技術特色
服務情況及收費標準
對外服務(平均機時/年)
收費標準(元/樣品)
聯系方式
聯系人 王久洪
聯系電話 13201543166
傳真 83395052
電子郵件 jhw@mail.xjtu.edu.cn
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