設備名稱:深干法刻蝕機
儀器型號:Oxford PlasmalabSystem100
所屬單位:西安交通大學
設備原值:380 萬元
制造廠商:Oxford
生產國別:英國
當前狀態:對外服務
儀器設備詳細指標
主要技術指標 電感耦合等離子體刻蝕(ICP)與反應離子刻蝕(RIE刻蝕)模式。可進行低溫硅刻蝕,深硅刻蝕和SOI工藝。
功能/應用范圍 無
服務領域 農/林/牧/漁 輕工/紡織 石油/石化 食品/煙草 地質/礦產 礦業/冶金 鋼鐵/有色金屬 水文氣象 非金屬/珠寶 橡膠/塑料(材料) 通信/郵政 機械制造 醫療/衛生 生物/醫藥 地質勘探 電氣工程 儀器/儀表 航空/航天 電子/信息技術 交通/運輸(公路/鐵路) 環保/水利/氣象/天文 其它
技術特色
服務情況及收費標準
對外服務(平均機時/年)
收費標準(元/樣品)
聯系方式
聯系人 王久洪
聯系電話 13201543166
傳真 83395052
電子郵件 jhw@mail.xjtu.edu.cn
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