通遼科技大市場暨內蒙古東部常設技術市場

設備名稱：電子束光刻機 

儀器型號：CABL-9000C 

所屬單位：西安交通大學 

設備原值：700 萬元 

制造廠商：CRESTEC  

生產國別：日本 

當前狀態：對外服務 

儀器設備詳細指標 

主要技術指標 技術參數：電子束光刻系統/電子束直寫系統/電子束曝光系統 1.最小線寬：小于10nm（8nm available) 2.加速電壓：1-50kV 3.電子束直徑：小于2nm 4.套刻精度：20nm(mean+2σ) 5.拼接精度：20nm(mean+2σ) 6.加工晶圓尺寸：4-8英寸(standard)，12英寸(option) 7.描電鏡分辨率：小于2nm 

功能/應用范圍 納米光刻技術在微納電子器件制作中起著關鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術制作中是最好的方法之一。日本CRESTEC公司為21世紀先進納米科技提供尖端的電子束納米光刻（EBL）系統，或稱電子束直寫（EBD）、電子束爆光系統。CABL-9000C系列最小線寬可達8nm，最小束斑直徑2nm，套刻精度 20nm(mean+2σ)，拼接精度 20nm(mean+2σ)。  

服務領域  農/林/牧/漁  輕工/紡織  石油/石化  食品/煙草  地質/礦產  礦業/冶金  鋼鐵/有色金屬  水文氣象  非金屬/珠寶  橡膠/塑料(材料)  通信/郵政  機械制造  醫療/衛生  生物/醫藥  地質勘探  電氣工程  儀器/儀表  航空/航天  電子/信息技術  交通/運輸(公路/鐵路)  環保/水利/氣象/天文  其它   

技術特色   

服務情況及收費標準 

對外服務(平均機時/年)   

收費標準（元/樣品）   

聯系方式 

聯系人 張亮亮  

聯系電話 13772544959