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              一種形成大面積均勻穩定鋰膜流的結構
              

                                    
              
                                        
              發布日期：2017/10/22 10:55:44
              


                                        
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                                            【字體：大
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                                        [實用新型] 一種形成大面積均勻穩定鋰膜流的結構

                

              • 授權公告號：CN206574489U
                • 

              • 授權公告日：2017.10.20
                • 

              • 申請號：2016213804655
                • 

              • 申請日：2016.12.16
                • 

              • 專利權人：核工業西南物理研究院
                • 

              • 發明人：張秀杰; 潘傳杰; 許增裕
                • 

                • 

              • 地址：610041四川省成都市雙流西南航空港黃荊路5號
                • 

              • 分類號：G21B1/13(2006.01)I  全部 

                

                  

                • 專利代理機構：核工業專利中心11007
                  • 

                • 代理人：高安娜
                  • 

                • 同樣的發明創造已同日申請發明專利
              

              摘要： 本實用新型屬于流體流動控制技術領域，具體涉及一種形成大面積均勻穩定鋰膜流的結構，包括若干個相同的弧形底壁單元，所述弧形底壁單元的上表面為一個弧度較小連續變化的凸起的曲面，下表面為一個弧度較小連續變化的凹陷的曲面，相鄰的兩個弧形底壁單元平行連接，連接邊為長邊。本實用新型在工程上簡單易行，通過底壁的特殊結構設計引導和控制液態鋰膜流，防止其收縮而獲得完全覆蓋底壁的液態鋰膜流系統，為解決在潤濕性不好情況下如何實現大面積完全覆蓋底壁的鋰膜流系統提供了一種新的思路。該鋰膜流系統不僅適用于入口膜厚及流速較大的情況，同時還適用于入口膜厚及流速較小的情況，適用范圍較廣。
              
                                      
              
                                    
                                    
                                    
                                    
              
                                        
              
                                            
                                               
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